本發(fā)明涉及建立掩模版缺陷檢測程式的方法,包括:提供一批掩模版,其中所述掩模版均為相移掩膜版、均為二元掩模板或為相移掩膜版和二元掩模板的混合;在所有掩模版的一相同固定位置設(shè)置一預(yù)定圖形,其中對于相移掩膜版,所述預(yù)定圖形包括石英圖形區(qū)域、鉻圖形區(qū)域和合成化學(xué)材料圖形區(qū)域,對于二元掩模板,所述預(yù)定圖形包括石英圖形區(qū)域和鉻圖形區(qū)域,而無需在每個掩模版內(nèi)尋找一定大小純石英、鉻或合成化學(xué)材料的地方,而可縮減尋找掩模版缺陷檢測校準(zhǔn)點的時間,建立掩模版缺陷檢測程式時無需基于光罩建立而直接將坐標(biāo)定位到該固定位置即可,而可完成離線建立掩模版缺陷檢測程式,從而在降低人員工作量的同時大幅提高機(jī)臺產(chǎn)能。
聲明:
“建立掩模版缺陷檢測程式的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)