本發(fā)明提供一種利用光譜儀量測(cè)氣體解離狀態(tài)的量測(cè)方法及其裝置。其原理主要藉由偵測(cè)管體內(nèi)之氣體解離狀態(tài)，并藉由本裝置計(jì)算出解離相對(duì)量值，俾于氣體的主路徑污染值過(guò)高時(shí)，由一第二路徑適量釋出被解離之反應(yīng)氣體，以排除該主路徑之污染物其設(shè)置范圍可應(yīng)用于所有需量測(cè)氣體解離狀態(tài)之設(shè)備及/或裝置，包括但不限于半導(dǎo)體、光電或面板等產(chǎn)業(yè)中的物理氣相沉積設(shè)備、化學(xué)氣相沉積設(shè)備或蝕刻設(shè)備等相關(guān)設(shè)備，也可直接設(shè)置于Remote Plasma Source(遠(yuǎn)端電漿源)設(shè)備內(nèi)。另外，本發(fā)明也可應(yīng)用在生技業(yè)、化學(xué)業(yè)及應(yīng)用物理之相關(guān)行業(yè)的檢驗(yàn)測(cè)試設(shè)備，更可進(jìn)一步應(yīng)用在以上相關(guān)行業(yè)之設(shè)備維修業(yè)的檢驗(yàn)設(shè)備或測(cè)試平臺(tái)。