本發(fā)明涉及一種測試光掩模板及其應(yīng)用,所述測試光掩模板用于測試當前金屬層,所述測試光掩模板的版圖由nxm個區(qū)域構(gòu)成,所述每個區(qū)域具有不同的圖形密度,每個區(qū)域包括密集線條陣列和冗余圖形陣列,其中n為大于等于1的整數(shù),m為大于等于1的整數(shù)。本發(fā)明通過使用具有金屬層冗余金屬填充應(yīng)用功能和監(jiān)測光刻工藝中產(chǎn)生缺陷功能的測試光掩模板,有效地提高金屬層冗余金屬填充設(shè)計和金屬層化學(xué)機械研磨工藝開發(fā)的效率,有效地提高預(yù)測經(jīng)過化學(xué)機械研磨后的金屬層平坦度和需要的圖形密度調(diào)整的效率,同時可以減少光刻工藝模塊中所使用測試光掩模的成本。
聲明:
“測試光掩模板及其應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)