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通過硅片自旋轉(zhuǎn)及振蕩機構(gòu)改善蝕刻率的測試方法

1085   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:25:59
本發(fā)明涉及一種通過硅片自旋轉(zhuǎn)及振蕩機構(gòu)改善蝕刻率的測試方法,包括以下步驟:1)將蝕刻制程槽補液到規(guī)定液位,進行制程槽化學液加熱,加熱時保證化學液在循環(huán)管路上利用石英在線式加熱器進行加熱;2)從25片硅片中隨機抽取6片,在每一片上標記13個測試點,測量蝕刻前的厚度;將測試片分別置于上貨區(qū),自動機械手臂夾取至蝕刻制程槽,蝕刻后移至DI清洗槽;3)在原先標記的13個測試點測試硅片厚度,得硅片被蝕刻掉的厚度,計算得到每一點的蝕刻速率,從而計算得到每一片硅片的蝕刻均勻性,進而計算6片測試片的蝕刻均勻性;本發(fā)明對蝕刻均勻性有比較明顯的改善,并且不同的上下振蕩速率及硅片旋轉(zhuǎn)速率對蝕刻均勻性有比較明顯的影響。
聲明:
“通過硅片自旋轉(zhuǎn)及振蕩機構(gòu)改善蝕刻率的測試方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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