本發(fā)明涉及光學鍍膜技術領域,尤其是一種行星轉動鍍膜裝置的均勻性模擬和測試方法,該方法在已知蒸發(fā)源和行星夾具結構的條件下,可實現(xiàn)對真空鍍膜均勻性的準確模擬,以及對鍍膜均勻性的快速優(yōu)化。將蒸發(fā)源視作具有一定傾斜角度的大口徑平面靶,膜料通過物理或化學氣相沉積,在平面行星夾具的基底材料表面形成薄膜,首先測試夾具在任一高度下的鍍膜均勻性,再通過模擬計算來確定蒸發(fā)源的蒸發(fā)特性,進而以模擬方法來確定出夾具的最佳位置,最后按模擬的最佳位置對均勻性進行第二次實際測試。該方法避免了在鍍膜均勻性測試過程中反復多次調節(jié)結構位置,僅需根據(jù)模擬和計算,便能確定鍍膜均勻性的最佳位置,具有簡便快捷、操作性強的優(yōu)點。
聲明:
“行星轉動鍍膜裝置的均勻性模擬和測試方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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