一種高穩(wěn)定性的非偏振依賴表面增強(qiáng)拉曼散射襯底、制備及應(yīng)用,其制備技術(shù)屬于材料物理化學(xué)領(lǐng)域;其應(yīng)用范疇屬于光散射科學(xué)和表面等離子體科學(xué)領(lǐng)域;其為由金納米粒子等邊三聚體周期性排列形成的規(guī)則陣列。制備工藝為:首先利用
電化學(xué)腐蝕在鋁基片上制備出一層極薄的
氧化鋁納米坑等邊三聚體周期性陣列,之后在該陣列上沉積一層極薄的金納米薄膜,然后對沉積有金膜的納米坑陣列基片進(jìn)行退火,得到金納米粒子等邊三聚體周期性陣列,即高穩(wěn)定性的非偏振依賴表面增強(qiáng)拉曼散射襯底。該襯底在表面增強(qiáng)拉曼散射檢測的過程中,具有在全360°范圍內(nèi)無視激發(fā)光偏振方向,全角度穩(wěn)定輸出表面增強(qiáng)拉曼散射信號的突出優(yōu)點。
聲明:
“高穩(wěn)定性的非偏振依賴表面增強(qiáng)拉曼散射襯底、制備及應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)