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晶圓后處理系統(tǒng)和方法

955   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 07:57:10
本發(fā)明涉及化學(xué)機械拋光后處理技術(shù)領(lǐng)域,公開了一種晶圓后處理系統(tǒng)和方法,系統(tǒng)包括:晶圓提升裝置,用于從清洗液中提拉浸入清洗液的晶圓;氣體噴射裝置,用于在晶圓從清洗液中提升的過程中,向晶圓表面附著的清洗液的彎液面區(qū)域噴射第一溫度的干燥氣體,以使晶圓表面的附著物按照與提升方向相反的方向從晶圓表面剝離;液面監(jiān)測裝置,與氣體噴射裝置連接,用于檢測彎液面區(qū)域的位置以使氣體噴射裝置噴射的干燥氣體對準(zhǔn)該彎液面三相接觸線區(qū)域。
聲明:
“晶圓后處理系統(tǒng)和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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