本發(fā)明涉及化學機械拋光后處理技術領域，公開了一種基板處理液的存儲裝置和基板后處理設備?；搴筇幚碓O備包括基板清洗模塊和基板干燥模塊，基板干燥模塊包括存儲裝置。存儲裝置包括存儲主體、第一管路、第二管路和第三管路，存儲主體具有分別與管路氣密連接的第一連接口、第二連接口和第三連接口；第一管路用于向存儲主體內通入氣體以增加存儲主體內的壓力；第二管路氣密連接于壓力檢測部；第三管路氣密連接于處理液供給管和排出管，供給管和排出管分別設置有獨立的開關組件，使得可以通過第三管路向存儲主體內加入處理液或從存儲主體排出處理液。