本發(fā)明公開一種利用介質(zhì)薄膜控制Otto結(jié)構(gòu)中空氣隙厚度的方法，當光強反射率R取得最小值時，此時對應的空氣隙厚度d1即為需要鍍制的介質(zhì)薄膜的厚度；采用物理沉積法或化學沉積法在棱鏡底面鍍制介質(zhì)薄膜；介質(zhì)薄膜鍍制完成后，采用精密測量儀器測量得出的所鍍介質(zhì)膜層的厚度，即為實際控制的納米尺度空氣隙的厚度。本發(fā)明解決了用來產(chǎn)生表面等離子體共振效應的Otto結(jié)構(gòu)中納米尺度空氣間隙厚度難于精確控制的問題。