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用于拋光墊窗口的抗反射層

1031   編輯:管理員   來源:中冶有色技術網(wǎng)  
2023-03-19 08:14:38
一種在化學機械整平(CMP)系統(tǒng)中使用的用于拋光墊窗口的抗散射層。發(fā)明尤其適用于具有粗糙下表面窗口的情況。以顯著減小光散射的方式在窗口的粗糙下表面上形成抗散射層,同時使得晶片的光學原位測量經受CMP工藝。減小的光散射導致信號強度增加,其有利于更耐久的光學原位測量能力。
聲明:
“用于拋光墊窗口的抗反射層” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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