本發(fā)明公開了一種工藝腔室用控溫裝置、控溫方法和工藝腔室。包括第一測溫單元,用于測量測溫窗的當前溫度;第二測溫單元,用于測量硅片的當前溫度;第一溫度控制單元,用于將測溫窗的當前溫度與預設的測溫窗目標溫度進行比較,當兩者不一致時,調(diào)整測溫窗的當前溫度,以使得兩者一致。能夠有效避免因測溫窗溫度過低出現(xiàn)的反應氣體在測溫窗內(nèi)凝結(jié)的現(xiàn)象以及因溫度過高出現(xiàn)的反應氣體在測溫窗內(nèi)發(fā)生化學沉積的現(xiàn)象,提高測量硅片的溫度的準確性。
聲明:
“工藝腔室用控溫裝置及方法、工藝腔室” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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