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測量光學(xué)薄膜等效折射率及物理厚度的設(shè)備和方法

829   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:27
本發(fā)明書提供了一種通過測量多個(gè)角度反射譜 來同時(shí)獲得薄膜等效折射率和厚度的設(shè)備和方法。該設(shè)備簡 單,測量方便。該方法是根據(jù)入射光在空氣-薄膜-襯底的界 面處兩次反射會(huì)發(fā)生干涉,其干涉現(xiàn)象會(huì)從反射譜上表現(xiàn)出 來。因此只要測得兩個(gè)不同入射角θ1和θ2含有干涉信息的反射譜R(θ1,ω)和R(θ2,ω),采用薄膜反射率公式同時(shí)擬合這兩個(gè)反射譜,得到相應(yīng)的光程差Δ1和Δ2,根據(jù)折射定律,聯(lián)立兩個(gè)方程就可以得出薄膜的等效折射率n及物理厚度d。與傳統(tǒng)方法不同的是該方法可以同時(shí)、方便、無損地測出薄膜的等效折射率和厚度,甚至可以用于鍍膜過程的實(shí)時(shí)監(jiān)控與在線檢測。
聲明:
“測量光學(xué)薄膜等效折射率及物理厚度的設(shè)備和方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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