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晶圓膜厚測量誤差補償方法

1127   編輯:管理員   來源:中冶有色技術網  
2023-03-19 08:58:33
本發(fā)明公開了一種晶圓膜厚測量誤差補償方法。本發(fā)明以線性擬合結果作為初始猜想,采用多變量優(yōu)化擬合總光程差曲線,從而得到更接近真實情況的WLRS。白光反射動態(tài)測量是廣泛使用的非接觸方法之一,白光反射率譜對薄膜厚度進行測量。這種方法具有無損傷,響應快,以及測量結果準確度高等優(yōu)點。一束白光由點A近垂直入射待測薄膜,在S1和S2表面經過數(shù)次折射及反射后,其相位發(fā)生變化,進而形成其相應的WLRS并在信號采集區(qū)顯示。WLRS與待測薄膜的厚度之間存在著一一對應關系。由此,可根據(jù)上述原理對基層表面的薄膜厚度進行非接觸式的測量。
聲明:
“晶圓膜厚測量誤差補償方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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