本發(fā)明屬于MEMS器件加工監(jiān)測(cè)技術(shù)領(lǐng)域,公開(kāi)了一種DRIE工藝誤差監(jiān)測(cè)系統(tǒng)及方法。本發(fā)明結(jié)合測(cè)試數(shù)據(jù)庫(kù)和有限元仿真數(shù)據(jù)庫(kù),可獲得晶圓由于工藝誤差引起的特征尺寸損耗、側(cè)壁陡直度和傾斜度的實(shí)際誤差值。本發(fā)明能夠在不破壞晶圓的情況下,實(shí)現(xiàn)對(duì)DRIE工藝多參數(shù)晶圓級(jí)無(wú)損監(jiān)測(cè),可獲取晶圓上局部或整體區(qū)域的具體參數(shù),保證了監(jiān)測(cè)數(shù)據(jù)的有效性和準(zhǔn)確性,對(duì)于提高基于DRIE工藝的MEMS器件性能有重要意義。
聲明:
“DRIE工藝誤差監(jiān)測(cè)系統(tǒng)及方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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