在本發(fā)明提供一種監(jiān)測(cè)存儲(chǔ)介質(zhì)厚度異常的方法及裝置，該方法包括：采集存儲(chǔ)介質(zhì)的實(shí)際光譜；將其與目標(biāo)薄膜層對(duì)應(yīng)的第一回歸擬合模型中的第一擬合光譜進(jìn)行擬合，獲得每個(gè)第一擬合光譜與上述實(shí)際光譜的第一回歸擬合優(yōu)度；其中，第一回歸擬合模型包括該存儲(chǔ)介質(zhì)中目標(biāo)薄膜層的多個(gè)第一預(yù)設(shè)厚度值，以及每個(gè)第一預(yù)設(shè)厚度值對(duì)應(yīng)的第一擬合光譜，第一回歸擬合優(yōu)度表征目標(biāo)層對(duì)應(yīng)的第一擬合光譜和實(shí)際光譜的相似程度；當(dāng)最大的第一回歸擬合優(yōu)度小于第一閾值時(shí)，監(jiān)測(cè)到所述存儲(chǔ)介質(zhì)的厚度異常。可見(jiàn)，該方案能夠?qū)Υ鎯?chǔ)介質(zhì)的厚度異常，進(jìn)行有效地、無(wú)損傷地、實(shí)時(shí)在線地監(jiān)測(cè)，并將厚度異常的信號(hào)反饋給工藝部門(mén)，優(yōu)化工藝控制。