本發(fā)明公開了一種金屬氫化物薄片制備方法,目的在于解決輕金屬氫化物在大氣環(huán)境極易與水發(fā)生化學反應(yīng),常規(guī)砂紙打磨方法制備的金屬氫化物薄片會在其表面生成水解產(chǎn)物,造成太赫茲特征波失真,并影響相關(guān)材料內(nèi)部缺陷無損檢測效果的問題。本發(fā)明為了獲得準確的金屬氫化物內(nèi)部缺陷無損檢測結(jié)果,開發(fā)了一種用于提取太赫茲特征波的金屬氫化物薄片制備方法。該方法首先利用化學氣相沉積技術(shù)(CVD)在金屬氫化物圓片表面形成一層致密的防水高分子膜,然后再將試件置于金相制樣機進行處理,最終在薄片新磨制面化學氣相沉積防水膜,獲得用于提取太赫茲特征波的金屬氫化物薄片。經(jīng)實際測定,本發(fā)明能夠有效解決前述問題,保證測定結(jié)果的準確性和可靠性。
聲明:
“金屬氫化物薄片制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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