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原位分析聚變裝置第一鏡表面雜質(zhì)的方法

971   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:58:46
本發(fā)明涉及光學(xué)診斷領(lǐng)域,公開了一種原位分析聚變裝置第一鏡表面雜質(zhì)的方法,首先測量并記錄原始第一鏡的太赫茲時域波譜,然后測量磁約束聚變裝置運行一段時間后載有雜質(zhì)灰塵的第一鏡表面反射太赫茲時域波譜;將兩者在有效頻域內(nèi)分別進行傅里葉變換,并進一步得到聚變裝置運行過后沉積在第一鏡表面灰塵雜質(zhì)層的相對反射率譜,將其與計算機數(shù)據(jù)庫中所有物質(zhì)的太赫茲吸收峰相比較;如果數(shù)據(jù)庫中某種物質(zhì)的特征吸收峰重合,就證明第一境表面雜質(zhì)灰塵中含有該物質(zhì)。本發(fā)明是一種無損檢測方法,可以有效地檢測沉積雜質(zhì)的物理化學(xué)信息;由于太赫茲波在聚等離子體及真空腔室內(nèi)傳播過程損耗極小,可以實現(xiàn)遠距離原位在線診斷,信噪比較高,穩(wěn)定性好;依據(jù)本發(fā)明,可以開發(fā)出小型,高效,直觀的第一鏡表面檢測設(shè)備。
聲明:
“原位分析聚變裝置第一鏡表面雜質(zhì)的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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