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應(yīng)用于NVM芯片的失效位圖分析方法

699   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-19 08:59:30
本發(fā)明公開了一種應(yīng)用于NVM芯片的失效位圖分析方法,該方法從芯片外部由具有位圖分析功能的測試儀輸入HV信號(hào),測試芯片的擦除、編程、讀取功能,用位圖分析方法進(jìn)行分析,存儲(chǔ)單元陣列中,缺陷附近的行或列在位圖中表現(xiàn)為讀取錯(cuò)誤,遠(yuǎn)離缺陷的行或列在位圖中表現(xiàn)為讀取正確,根據(jù)位圖反映的缺陷特征信息分析失效機(jī)理和定位失效位置。本發(fā)明通過改進(jìn)常規(guī)的失效位圖分析方法,將HV信號(hào)由芯片內(nèi)部Pump電路模塊產(chǎn)生改為由芯片外部測試儀輸入,從而在NVM存儲(chǔ)陣列全部存儲(chǔ)單元Read失效的情況下,得到了失效芯片的具有缺陷特征的位圖信息,不僅突破了常規(guī)位圖分析方法的限制,而且大大提高了位圖分析定位的有效性和適用范圍。
聲明:
“應(yīng)用于NVM芯片的失效位圖分析方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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