一種鎳酸鑭導電金屬氧化物納米薄膜的制備方法,該方法包括:一、靶材的制備,即首先把分析純的Ni2O3、La2O3氧化物粉末以1∶1的比例混合,進行預燒,預燒后之后進行球磨,然后壓成直徑50mm,厚度4mm的圓片,最后在1050~1150℃度高溫中燒結成陶瓷靶;二、薄膜材料的制備,即采用射頻磁控濺射法,調整好濺射機的各項參數,襯底原位加熱到一定溫度后,濺射沉積所需厚度的薄膜。本發(fā)明的方法制得的薄膜具有高度的擇優(yōu)取向和良好的導電性,表面致密平整,在室溫下的電阻率約為1mΩcm。這種薄膜可以用作制備高質量
鈣鈦礦結構鐵電薄膜材料的緩沖層,或者可作為鐵電薄膜器件的底電極。
聲明:
“鎳酸鑭導電金屬氧化物納米薄膜的制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)