本發(fā)明公開(kāi)了一種低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液,包括磁性微米顆粒、磁性耐輻照增強(qiáng)顆粒、基載液、分散劑、防沉劑、潤(rùn)滑劑、觸變劑、表面活性劑、耐輻照劑、抗板結(jié)劑,所述磁性耐輻照增強(qiáng)顆粒由無(wú)機(jī)耐輻照增強(qiáng)顆粒材料通過(guò)球磨工藝對(duì)磁性納米顆粒進(jìn)行包覆制得;利用無(wú)機(jī)耐輻照顆粒材料,結(jié)合球磨工藝對(duì)磁性顆粒進(jìn)行包覆,并作為分散相添加到磁流變液中,由于納米磁性顆粒和耐輻照材料之間耦合協(xié)同的增強(qiáng)效應(yīng),提升了磁流變液低磁場(chǎng)下的剪切屈服應(yīng)力和耐輻照能力,改善輻照極端環(huán)境下性能下降的問(wèn)題,同時(shí)兼具低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力、抗沉降性好,以及再分散性好的特點(diǎn)。
聲明:
“低磁場(chǎng)下高剪切屈服應(yīng)力的耐輻照磁流變液” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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