本發(fā)明涉及一種光譜分析用高純等靜壓石墨材料的制備方法,包括以下步驟:獲取滿足指標(biāo)條件的各組分?二次炭黑的制備?第一次干混?第二次干混?濕混?等靜壓成型及后續(xù)工藝處理?石墨化處理制成光譜分析用高純等靜壓石墨材料,本發(fā)明通過在原料瀝青焦中加入二次炭黑、石墨粉等,與原料中的其他材料相融合,可以補(bǔ)充成品石墨材料的機(jī)械強(qiáng)度;本發(fā)明對(duì)原料進(jìn)行研磨,再通過模壓成型、燒結(jié)炭化處理,最后通過石墨化工藝,可以增加高純石墨材料的密度和強(qiáng)度。
聲明:
“光譜分析用高純等靜壓石墨材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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