實(shí)施例是改進(jìn)的晶體管結(jié)構(gòu)及該結(jié)構(gòu)的制造方法。具體地,實(shí)施例的濕法蝕刻形成具有改進(jìn)的尖端形狀的源和漏區(qū),以通過改進(jìn)短溝道效應(yīng)的控制、增加飽和電流、改進(jìn)冶金柵長度的控制、增加載流子遷移率并減小源和漏及硅化物之間的界面處的接觸電阻來改進(jìn)晶體管的性能。
聲明:
“具有改進(jìn)的尖端輪廓的晶體管及其制造方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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