本發(fā)明公開一種高濃度
硫酸鎳溶液中微量硅深度去除的方法,采用硫酸鋁為沉淀劑,非離子型聚丙烯酰胺(NAPM)為絮凝劑,構(gòu)建Al
2(SO
4)
3—NAPM復合體系實現(xiàn)微量硅的深度去除,得到的硫酸鎳凈化液中硅含量可降至1mg/L以下,除硅渣經(jīng)酸洗后的浸出濾液可返回進行除硅,實現(xiàn)了除硅劑鋁鹽的再生利用。該方法除硅效果優(yōu)良,鎳損低,采用的除硅劑廉價易得,操作簡單,易于實現(xiàn)工業(yè)化。
聲明:
“高濃度硫酸鎳溶液中微量硅的去除方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)