本發(fā)明提供了一種氧化和還原氣氛共存的冶金反應裝置,所述反應裝置包括反應塔;所述反應塔頂部設(shè)有氧氣和固炭的加料裝置;所述氧氣和固炭不斷自塔頂向下加入反應塔中,通過固炭和氧氣燃燒反應使反應塔自上而下形成強氧化區(qū)、弱氧化區(qū)、弱還原區(qū)和強還原區(qū)。本發(fā)明利用固炭在下落過程中與氧氣反應速度的不斷加快,從而使從上至下的方向上O2/CO的比例不斷降低,最終越過氧化和還原條件的界限,在空間中從上至下形成氧化和還原兩種氣氛。該冶金反應裝置構(gòu)建方法簡單、一次性投資低、能耗低。
聲明:
“氧化和還原氣氛共存的冶金反應裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)