本發(fā)明公開了一種反應(yīng)等離子熔覆原位合成TiN復(fù)合涂層,該涂層相成分主要包括TiN、α-Fe、Ti相,無氧化物相;涂層較致密,無孔隙,涂層內(nèi)TiN彌散分布,涂層與基體處無裂紋等微觀缺陷,與基體呈冶金結(jié)合。本發(fā)明利用反應(yīng)等離子熔覆技術(shù)原位合成TiN涂層可以在短時(shí)間內(nèi)制備出較厚的涂層,大大提高了粉末的沉積效率,節(jié)約了成本;涂層內(nèi)孔隙率低,涂層質(zhì)量好,涂層與基體可以形成冶金結(jié)合,大大提高了涂層的性能。
聲明:
“反應(yīng)等離子熔覆原位合成TiN涂層” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)