本發(fā)明公開(kāi)了屬于空間輻射防護(hù)技術(shù)領(lǐng)域的一種抗高能電子輻射多層結(jié)構(gòu)屏蔽材料及其制備方法。根據(jù)空間輻射環(huán)境對(duì)材料重量和屏蔽性能等強(qiáng)約束條件及要求,采用多層屏蔽的設(shè)計(jì)方法,設(shè)計(jì)的屏蔽材料主體層由高Z金屬鉭和低Z
金屬鎂復(fù)合而成。當(dāng)面密度為2g/cm
2時(shí),該層狀復(fù)合屏蔽材料對(duì)3.5MeV電子的屏蔽性能大于80%?;谝苯饘W(xué)原理引入Ti、Cu、Al等金屬過(guò)渡層,通過(guò)擴(kuò)散焊連接技術(shù)實(shí)現(xiàn)了Mg、Ta互不相容金屬的冶金結(jié)合。
聲明:
“抗電子輻射多層結(jié)構(gòu)屏蔽材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)