一種光纖傳感器仿生分子識別納米傳感膜及其制備方法,是具有對模板分子專一的仿生分子識別能力的傳感膜,其特征在于該傳感膜是生成在以二氧化硅、玻璃或石英為材料的硅基光纖的端面上的、厚度可控的、厚度范圍為5~50NM的膜。傳感膜的厚度是通過可逆加成-鏈轉移自由基聚合反應時間控制,且與時間呈線性關系。制備方法包括對光纖端面進行氯
硅烷衍生,將上述光纖端面的氯硅烷轉化為鏈轉移劑,再對上述端面為鏈轉移劑的光纖進行分子印跡聚合反應,最后洗脫仿生分子識別納米傳感膜中的模板分子。本發(fā)明直接在光纖端面合成分子印跡納米傳感膜,使得傳感膜的厚度達到NM級別,其靈敏度高、穩(wěn)定性好,將廣泛的應用在冶金、化工、環(huán)保等相關領域。
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