本發(fā)明公開了一種在鋯表面滲鍍鉑薄膜的方法,其方法為:將經(jīng)預(yù)處 理后的鋯工件置入帶有加熱裝置的真空離子鍍膜機(jī),預(yù)抽真空至1×10-3Pa, 加熱工件至500℃~800℃,保溫一定時間,通入氬氣,調(diào)節(jié)真空度至1~ 9×10-1Pa,對工件加載負(fù)偏壓800~2000V,開啟裝有鉑濺射靶的濺射源; 調(diào)節(jié)負(fù)偏壓至100~500V,再沉積一定時間,關(guān)閉濺射源,直到鋯工件溫 度低于100℃后取出。本發(fā)明通過控制鍍膜工藝參數(shù)可制備0.1~10μm的 鉑擴(kuò)滲層和0.1~50μm鉑沉積層,制備的鉑擴(kuò)滲層與基體鋯沒有明顯的界 面,呈冶金結(jié)合。
聲明:
“在鋯表面滲鍍鉑薄膜的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)