本發(fā)明涉及一種霧化設(shè)備,特別是涉及一種水霧化或水氣霧化設(shè)備,用于制備金屬及合金粉末,屬
粉末冶金設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域。采用本發(fā)明的水霧化設(shè)備,與目前國內(nèi)的水霧化設(shè)備相比,具有安全,生產(chǎn)出來的粉末其氧含量在50至500ppm的特點(diǎn)。本發(fā)明所發(fā)明的霧化設(shè)備具備如下三點(diǎn)的特征。1,本設(shè)備具有采用半化學(xué)如加入CO等還原性氣體及半機(jī)械密封如移動(dòng)隔板的方式以降低熔煉室中氧含量的特點(diǎn)。2,本設(shè)備所采用的機(jī)械密封方式能完全隔開熔煉室和霧化室。該密封方式具備允許金屬溶液進(jìn)入霧化室同時(shí)又可防止水汽進(jìn)入熔煉室的特點(diǎn),避免了可能發(fā)生爆炸。同時(shí)避免了霧化室中的水氣進(jìn)入熔煉室,以免影響抽真空。3,本設(shè)備具有把熔煉設(shè)備裝在密封的容器中的特點(diǎn)。然后采用抽真空的方式抽走容器中的全部空氣,并在必要時(shí)采用惰性氣體或還原性氣體來進(jìn)行保護(hù)。
聲明:
“半化學(xué)半機(jī)械密封式超低氧含量霧化設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)