本發(fā)明涉及一種X熒光光譜鍍層分析儀裝置,包括光管、準(zhǔn)直器、攝像頭、激光調(diào)節(jié)裝置、探測(cè)器以及樣品測(cè)試平臺(tái),準(zhǔn)直器固定在光管的法蘭上,激光調(diào)節(jié)裝置固定于光管的前端支腳上,攝像頭設(shè)置于光管的一側(cè),探測(cè)器位于光管的另一側(cè),樣品測(cè)試平臺(tái)位于光管的光路上,準(zhǔn)直器的底座上設(shè)有一第一鏡片,第一鏡片位于光管的光路上,攝像頭底部的光路上設(shè)有一第二鏡片?？删_定位樣品在樣品測(cè)試平臺(tái)上的測(cè)試位置;整個(gè)裝置結(jié)構(gòu)緊湊;可實(shí)時(shí)觀測(cè)樣品的測(cè)試過(guò)程;樣品和測(cè)試組件的相對(duì)高度位置可調(diào)節(jié),避免了不必要的碰撞而造成的損失。其適用于環(huán)境保護(hù)、臨床醫(yī)學(xué)、農(nóng)業(yè)、地質(zhì)冶金、制藥行業(yè)、石化等行業(yè)的X熒光光譜鍍層分析之用。