本發(fā)明公開了一種低共熔溶劑體系中ITO廢靶直接電解制備銦錫合金的方法,屬于
有色金屬冶金技術(shù)領(lǐng)域。本發(fā)明直接采用ITO廢靶塊料作為陰極,石墨作為陽(yáng)極,在低共熔溶劑體系中進(jìn)行直流電解,在電場(chǎng)作用下使ITO廢靶中的氧原子得到電子形成氧離子進(jìn)入電解質(zhì)而從陰極上脫除,直接獲得銦錫合金產(chǎn)品。本發(fā)明充分利用ITO廢靶導(dǎo)電性良好的特性,通過(guò)一步電解工藝制備銦錫合金,具有工藝簡(jiǎn)單、成本低、銦和錫回收率高等特點(diǎn),且獲得的銦錫合金既可以直接用作生產(chǎn)ITO靶材的原料,亦可以進(jìn)一步處理分離回收銦和錫金屬產(chǎn)品,工藝靈活,有價(jià)元素綜合回收率高。
聲明:
“低共熔溶劑體系中ITO廢靶直接電解制備銦錫合金的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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