本公開(kāi)內(nèi)容提供了氫純化設(shè)備及其部件。在一些實(shí)施方式中,所述設(shè)備可包括設(shè)置在第一端部框架和第二端部框架之間并固定至第一端部框架和第二端部框架的至少一個(gè)箔片微孔篩網(wǎng)裝置。所述至少一個(gè)箔片微孔篩網(wǎng)裝置可以包括至少一個(gè)氫選擇性膜和至少一個(gè)微孔篩網(wǎng)結(jié)構(gòu),所述微孔篩網(wǎng)結(jié)構(gòu)包括具有形成多個(gè)流體通道的多個(gè)孔的非多孔平面片。所述平面片可以包括構(gòu)造為向滲透?jìng)?cè)提供支撐的大致上相對(duì)的平面表面。所述多個(gè)流體通道可在所述相對(duì)的表面之間延伸。所述至少一個(gè)氫選擇性膜可以冶金結(jié)合到所述至少一個(gè)微孔篩網(wǎng)結(jié)構(gòu)。在一些實(shí)施方式中,所述設(shè)備可包括具有至少一個(gè)膜支撐結(jié)構(gòu)的滲透框架,該膜支撐結(jié)構(gòu)跨過(guò)開(kāi)放區(qū)的至少大部分并且構(gòu)造為支撐至少一個(gè)箔片微孔篩網(wǎng)裝置。
聲明:
“氫純化設(shè)備” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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