本發(fā)明公開了一種氧化物殼層包覆核殼結構粉體的環(huán)形生成裝置,涉及冶金工藝技術領域,包括卡盤和布氣元件,布氣元件固定在卡盤上,且卡盤中部固定有噴管,噴管用于連通等離子噴槍,布氣元件用于連通供氧元件,供氧元件用于向布氣元件內提供氧氣,布氣元件的側壁上開設有至少一個出氧孔組,各出氧孔組包括多個在噴管周向呈環(huán)形布設的出氧孔,出氧孔用于排出氧氣,噴管能夠向各出氧孔之間噴射攜帶粉體的等離子體。該氧化物殼層包覆核殼結構粉體的環(huán)形生成裝置能夠提高氧化物核殼包覆核殼結構粉體的質量,從而提高核殼結合強度,保證涂層質量。
聲明:
“氧化物殼層包覆核殼結構粉體的環(huán)形生成裝置” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
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