高溫粒子紅外光譜輻射特性的測量裝置及測量方法,涉及一種彌散顆粒紅外光譜輻射特性的測量裝置及測量方法,它解決了現(xiàn)有技術(shù)無法測量高溫連續(xù)光譜范圍內(nèi)自然狀態(tài)粒子輻射特性的問題。本發(fā)明采用環(huán)境補(bǔ)償算法,實現(xiàn)了對自然狀態(tài)下高溫粒子光譜等效透射比的測量,確定了對連續(xù)光譜范圍內(nèi)高溫粒子輻射特性測量的適用性,并為進(jìn)一步反演高溫粒子復(fù)折射率的研究提供可靠的實驗數(shù)據(jù)和實驗裝置,本發(fā)明的測量不確定度小于2%。本發(fā)明可以廣泛應(yīng)用于化工、冶金、動力、建筑、醫(yī)藥、生物、食品、航天、軍事及大氣科學(xué)等領(lǐng)域。
聲明:
“高溫粒子紅外光譜輻射特性的測量裝置及測量方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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