本發(fā)明公開了一種醫(yī)用鈦表面制備含氟羥基磷灰石/氧化鋯過渡涂層的電化學(xué)方法，包括以下步驟：在具有三電極系統(tǒng)的電解槽中進行電沉積，醫(yī)用鈦片為工作電極；先在一定濃度和pH的硝酸氧鋯溶液中電沉積出Zr(OH)4鍍層，沉積電流11.1mA，沉積時間40s；隨后在一定濃度和pH的硝酸鈣、磷酸二氫銨和氟化鈉組成的電解液中沉積得到含氟羥基磷灰石(FHA)鍍層，沉積電流0.8mA，沉積時間3600s；經(jīng)450℃真空燒結(jié)，得到FHA/ZrO2過渡涂層。氟部分取代磷灰石中的羥基，氟離子比羥基小，F(xiàn)HA晶格常數(shù)變小，使FHA溶解度較HA降低，涂層相貌由微米級的菊花瓣狀變化為納米級的尖錐狀，F(xiàn)離子的抑菌作用亦可防止齲齒；ZrO2作為鈦基體與FHA涂層之間的過渡層，F(xiàn)HA/ZrO2過渡涂層與Ti基結(jié)合強度有極大提高。FHA/ZrO2過渡涂層與鈦基結(jié)合強度高，抗生理溶解性強，抗菌性好，以期望成為具有良好發(fā)展前景的口腔醫(yī)用材料。