本發(fā)明公開了一種新型管狀I(lǐng)TO靶材的制備方法,其特征在于:所述ITO粉末以銦錠和四氯化錫為原料,通過工序制備得到重量百分比In2O3:SnO2=96:3、純度≥99.98%、粒度為0.7~1.5μm的ITO,所述ITO粉末通過化學(xué)共沉淀、脫水、煅燒及球磨的工序制備而成,通過化學(xué)共沉淀、脫水、煅燒及球磨等現(xiàn)有技術(shù)對(duì)原料進(jìn)行處理得到ITO粉,再通過對(duì)ITO粉進(jìn)行真空燒結(jié)、降溫制備得到ITO靶材,方法簡(jiǎn)單,操作方便,便于推廣使用,從而在制備中不容易出現(xiàn)管狀I(lǐng)TO靶材組織的偏析現(xiàn)象,晶粒不是很微細(xì)均勻,純度也不是很高的問題,并且具有尺寸大型化制作、高密度化、符合多種領(lǐng)域的使用,這樣提高了管狀I(lǐng)TO靶材的領(lǐng)域使用,從而具有很好的市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力度,不容易被市場(chǎng)所淘汰。
聲明:
“新型管狀I(lǐng)TO靶材的制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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