本發(fā)明提供一種e形多電子束蒸鍍裝置,該蒸鍍設(shè)備包括永久磁鐵N極、S極、X/Y掃描線圈、坩堝、冷卻水及電子束發(fā)射器;采用磁偏轉(zhuǎn)式電子束,使得電子束路徑呈現(xiàn)e字型,偏轉(zhuǎn)角為270度,其中電子束發(fā)射器的由燈絲陰極、陽極、偏轉(zhuǎn)線圈等其他部件構(gòu)成。從多電子束與旋轉(zhuǎn)坩堝兩方面應(yīng)對電子槍故障問題。e形多電子束蒸鍍設(shè)計大幅度提高了蒸鍍效率和熔點,此外,為了提高蒸鍍過程薄膜沉積速率精度和穩(wěn)定性,本發(fā)明專利從熱電子發(fā)射模塊、高壓電子加速模塊和電子束偏轉(zhuǎn)模塊三個方面設(shè)計了新的電子槍電路。
聲明:
“e形多電子束蒸鍍裝置及電子槍電路” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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