本發(fā)明涉及一種源漏電極的制備方法、陣列基板的制備方法和顯示機(jī)構(gòu)。該源漏電極的制備方法包括如下步驟:在襯底上設(shè)置導(dǎo)電層;在導(dǎo)電層遠(yuǎn)離襯底的一側(cè)形成光刻膠層;對光刻膠層進(jìn)行曝光處理,再經(jīng)顯影而在光刻膠層上形成貫通光刻膠層的凹槽,形成具有圖案的光刻膠層;及在具有圖案的光刻膠層上
電化學(xué)沉積
功能材料,然后去除光刻膠層,得到形成有圖案層的導(dǎo)電層,得到源漏電極。采用上述制備方法得到的源漏電極的電導(dǎo)率較高。
聲明:
“源漏電極的制備方法、陣列基板的制備方法和顯示機(jī)構(gòu)” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)