本發(fā)明公開了一種熒光磁性氧化
石墨烯基4?氯酚分子印跡聚合物的制備及應(yīng)用,屬于
功能材料技術(shù)領(lǐng)域,該分子印跡聚合物是將氧化石墨烯與磁性材料復(fù)合,再在其表面修飾熒光量子點(diǎn),最后通過分子印跡技術(shù),制備出能夠?qū)??氯酚模板分子具有特異性識(shí)別能力的熒光磁性氧化石墨烯基4?氯酚分子印跡聚合物,該分子印跡聚合物具有大的比表面積,識(shí)別位點(diǎn)多,傳質(zhì)速率快、選擇吸附性能優(yōu)良;該分子印跡聚合物在磁場(chǎng)作用下可以使聚合物在復(fù)雜基質(zhì)中快速分離出來,并可應(yīng)用于對(duì)4?氯酚具有特異性的熒光檢測(cè);該分子印跡聚合物作為固相萃取劑,可以用來特異性富集和檢測(cè)痕量4?氯酚,該方法富集倍數(shù)高、檢測(cè)限低,因此具有較高的萃取能力和效率。
聲明:
“熒光磁性氧化石墨烯基4-氯酚分子印跡聚合物的制備和應(yīng)用” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)