本申請公開了一種流體處理裝置,包括:基體,包含具有流體入、出口的第一流體通道,該流體入口分布于該基體的第一表面的第一區(qū)域內(nèi);流體阻擋部,具有與該第一表面相對設(shè)置的第二表面;多個凸起部,所述凸起部沿橫向在所述第一表面的第二區(qū)域連續(xù)延伸,其中相鄰?fù)蛊鸩恐g形成有可供流體通過的溝槽,并且所述凸起部具有沿橫向相背對的第一、第二端,該第一端與該第一表面密封連接,該第二端的局部區(qū)域與該第二表面密封連接,從而使所述多個凸起部、流體阻擋部與基體配合形成與第一流體通道連通的第二流體通道。本申請的流體處理裝置具有通量大、流阻小、能高效清除流體中微/納米級顆粒等特點,可重復(fù)使用,使用壽命長,且適于規(guī)模化大批量生產(chǎn)。
聲明:
“流體處理裝置” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)