本發(fā)明提供了中高氣壓微波等離子體射流熱處理/制備高純材料的方法與裝置,所述的微波等離子體射流裝置包括:微波源系統(tǒng)、波傳輸系統(tǒng)、進氣系統(tǒng)、等離子體反應區(qū)、收集系統(tǒng)、真空系統(tǒng);待處理材料從旋氣頭排出時即面對漸變波導中傳輸?shù)奈⒉?,等離子體的化學作用和熱作用對待處理材料或氣體進行處理;本發(fā)明提供的這種中高氣壓微波等離子體射流的產(chǎn)生方法和裝置增加了溫區(qū)可控的熱等離子體區(qū)域的范圍和可控性,降低了等離子體弧源的產(chǎn)生難度,提高了可行性和靈活性。本發(fā)明涉及的方法和裝置滿足氣壓范圍寬、溫度范圍寬、處理材料種類范圍寬,并可用于遠程等離子體實施材料表面處理技術(shù)。
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