本發(fā)明公開了一種大面積微納圖形化的方法和裝置,該裝置機架、工作臺、承片臺、襯底、壓印材料、軟模具、滾輪、紫外光光源、壓印機構、真空管路、壓力管路?;谠撗b置實現(xiàn)大面積微納圖形化的方法:(1)預處理;(2)壓印和固化;(3)脫模;(4)后處理。該方法充分結合了平板型納米壓印和滾輪型納米壓印工藝的優(yōu)勢,通過滾輪、軟模具、工作臺和氣路系統(tǒng)的密切配合,完成大面積壓印和脫模操作。實現(xiàn)在超大尺寸、非平整剛性襯底(硬質基材或基板)、或易碎襯底上高效、低成本規(guī)?;圃齑竺娣e微納米結構,解決了米級尺度超大尺寸剛性襯底的大面積微納米圖形化難題。具有結構和工藝簡單、效率高、成本低、壓印圖形精度高和缺陷率低的特點。
聲明:
“大面積微納圖形化的裝置和方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)