在一種電極裝置中，該電極裝置包括在各層中具 有電極(ε)的第一和第二薄膜電極層(L1，L2)，該電極為平行 條狀形式的電導體，提供僅由電絕緣材料的的薄膜(6)分開的電 極(ε)，電絕緣材料的薄膜的厚度最多為電極寬度的一部分并 且至少沿其側(cè)邊延伸并在其間形成絕緣壁(6a)。電極層(L1，L2) 被平面化以獲得非常平的表面。在包括一個或多個電極裝置 (EM)的設(shè)備中，每個的電極層(L1，L2)以其各自的電極(1；2) 以一角度相交而相互取向，優(yōu)選正交，并整體提供功能介質(zhì)(3) 夾在其間，以便獲得優(yōu)選無源矩陣可尋址設(shè)備并將其用作例如 包括形式例如分別為邏輯單元或存儲單元的可獨立尋址功能 元件(5)的矩陣可尋址數(shù)據(jù)處理裝置或矩陣可尋址數(shù)據(jù)存儲裝 置，其在整體功能介質(zhì)(3)中的填充因數(shù)接近一并且該設(shè)備中單 元的最大數(shù)目約為A/f2，其中A 為夾在電極層(L1，L2)之間的整體功能介質(zhì)(3)的面積，而f是 受工藝約束的最小特征值。