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刻畫中小型伸展斷陷盆地生長逆斷層的方法

956   編輯:管理員   來源:中冶有色技術(shù)網(wǎng)  
2023-03-02 00:50:06
本發(fā)明提出一種刻畫中小型伸展斷陷盆地生長逆斷層的方法,屬于地質(zhì)勘探技術(shù)領(lǐng)域。所述方法包括:待識(shí)別區(qū)資料收集與處理;在層序地層學(xué)理論指導(dǎo)下進(jìn)行層序劃分,建立待識(shí)別區(qū)等時(shí)層序地層格架;在待識(shí)別區(qū)等時(shí)層序地層格架約束下,進(jìn)行構(gòu)造-地層聯(lián)動(dòng)解釋,識(shí)別和劃分出正、逆斷層;對劃分出的正、逆斷層進(jìn)行地層-沉積聯(lián)動(dòng)解釋,剔除其中被誤識(shí)別的偽斷層,建立待識(shí)別區(qū)斷層格架;對待識(shí)別區(qū)斷層格架中的正、逆斷層進(jìn)行構(gòu)造-沉積聯(lián)動(dòng)解釋,建立生長斷層構(gòu)造格架,確定出其中的生長逆斷層;構(gòu)建生長逆斷層的構(gòu)造地質(zhì)模型及其衍生構(gòu)造地質(zhì)模型,解析各構(gòu)造地質(zhì)模型中生長逆斷層的成因,指導(dǎo)待識(shí)別區(qū)油氣勘探。
聲明:
“刻畫中小型伸展斷陷盆地生長逆斷層的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)
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