本發(fā)明提供了一種圖形化巨磁阻
復合材料薄膜制備方法。首先通過光刻方法在多孔
氧化鋁濾膜上形成所需圖形,然后利用真空過濾
碳納米管懸浮液的方法在模板上形成圖形化碳納米管陣列,之后直接將液態(tài)聚合物置于濾膜之上,固化后去除濾膜,碳納米管即被轉移至聚合物基體表面,形成圖形化碳納米管/聚合物復合材料薄膜。在這個過程中通過調節(jié)碳納米管懸浮液濃度和過濾溶液體積,獲得不同密度的碳納米管薄膜,進而實現(xiàn)薄膜巨磁阻效應的可調節(jié),在柔性磁傳感器領域具有廣泛應用前景。
聲明:
“圖形化巨磁阻復合材料薄膜制備方法” 該技術專利(論文)所有權利歸屬于技術(論文)所有人。僅供學習研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)