本發(fā)明涉及飛機(jī)蒙皮技術(shù)領(lǐng)域,且公開(kāi)了一種飛機(jī)
復(fù)合材料蒙皮的電磁屏蔽方法,具體加工步驟如下:采用真空蒸鍍法,以二氧化硅或
氧化鋁為蒸發(fā)材料,氧氣為補(bǔ)償氣體,在飛機(jī)蒙皮表面鍍一層二氧化硅或氧化鋁的絕緣層,絕緣層的厚度為0.5?1μm;采用真空鍍膜法,在飛機(jī)蒙皮絕緣層上鍍一層鉻層,鉻層的厚度為0.1?0.5μm;采用化學(xué)氣相沉積法,在30?55℃下,鉻層上鍍一層含氟二氧化硅層,含氟二氧化硅層的厚度為0.3?0.8μm;采用真空鍍膜法,在含氟二氧化硅層上鍍一層銅層,銅層的厚度為0.2?0.6μm。該飛機(jī)復(fù)合材料蒙皮的電磁屏蔽方法,使得飛機(jī)蒙皮具備良好的電磁屏蔽能力,而且多層材料的設(shè)置,同時(shí)也大大提高了飛機(jī)蒙皮的防護(hù)強(qiáng)度。
聲明:
“飛機(jī)復(fù)合材料蒙皮的電磁屏蔽方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)