本申請公開了一種氮化硼納米片,所述氮化硼納米片橫向尺寸介于1~15μm之間,厚度介于1~10nm之間,長徑比介于600~2000之間。所述氮化硼納米片的制備方法、以及所述氮化硼納米片與高分子基體形成的絕緣
復(fù)合材料。
聲明:
“基于大長徑比氮化硼納米片、高導(dǎo)熱絕緣復(fù)合材料及其制備方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)