本發(fā)明涉及一種碳化硅基致密硅涂層及其制備方法與應(yīng)用、光學(xué)反射鏡,屬于材料領(lǐng)域。制備方法包括:采用等離子噴涂?物理氣相沉積方法將含有Si元素的涂層沉積于基體的表面,基體的原料包括碳化硅基
復(fù)合材料,碳化硅基復(fù)合材料包括SiC/SiC復(fù)合材料。該制備與傳統(tǒng)制備技術(shù)相比,可減少涂層中的熱應(yīng)力和裂紋數(shù)量,拋光后可滿足目前太空反射鏡光學(xué)要求。制備而得的碳化硅基致密硅涂層致密均勻、硬度適中、拋光性好,熱變形系統(tǒng)小、抗熱震性好,具有較佳的熱性能及機(jī)械性能且耐環(huán)境能力強(qiáng)。
聲明:
“碳化硅基致密硅涂層及其制備方法與應(yīng)用、光學(xué)反射鏡” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請聯(lián)系該技術(shù)所有人。
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