本發(fā)明公開了一種反應(yīng)熔滴沉積裝置,包括真空室、第一氣源、第一抽真空系統(tǒng)和裝有Cu-R合金粉末的料斗,其中R為
稀土元素的一種或多種組合,所述第一氣源、第一抽真空系統(tǒng)分別與真空室連通,所述真空室內(nèi)設(shè)有由加熱體進(jìn)行加熱的結(jié)晶器,所述料斗的底部設(shè)有落料裝置使料斗中的Cu-R合金粉末落入結(jié)晶器上。本發(fā)明提供的反應(yīng)熔滴沉積裝置及用其制備彌散強(qiáng)化銅的方法,控制氣氛的成分,通過(guò)氣-液反應(yīng)制備
復(fù)合材料,液相厚度小,擴(kuò)散距離短;通過(guò)可控的原位反應(yīng)制備彌散強(qiáng)化金屬基復(fù)合材料。逐層沉積,制備大塊復(fù)合材料錠。
聲明:
“反應(yīng)熔滴沉積裝置及用其制備彌散強(qiáng)化銅的方法” 該技術(shù)專利(論文)所有權(quán)利歸屬于技術(shù)(論文)所有人。僅供學(xué)習(xí)研究,如用于商業(yè)用途,請(qǐng)聯(lián)系該技術(shù)所有人。
我是此專利(論文)的發(fā)明人(作者)