一種超分辨近場(chǎng)結(jié)構(gòu)光盤(pán),包括鍺銻碲記錄層和聚碳酸酯光盤(pán)基片,特征在于其構(gòu)成是在光盤(pán)基片上依次濺射:第一保護(hù)層、非線性掩膜層、第二保護(hù)層、記錄層和第三保護(hù)層構(gòu)成的,所述的非線性掩膜層為銻;所述的第一保護(hù)層、第二保護(hù)層和第三保護(hù)層都是氮化硅和二氧化硅的復(fù)合材料構(gòu)成的;本發(fā)明綜合了傳統(tǒng)超分辨光盤(pán)和近場(chǎng)記錄的優(yōu)點(diǎn),聚焦光束作用在非線性掩膜層上形成一個(gè)動(dòng)態(tài)開(kāi)關(guān)小孔(尺寸小于衍射極限),聚焦光束通過(guò)小孔后,光斑大小在近場(chǎng)范是由小孔大小決定而不是由衍射極限決定,所以可以不受衍射極限的限制,大大縮小記錄點(diǎn)尺寸,提高光盤(pán)的存儲(chǔ)密度,具有很高的實(shí)用化前景。